未收藏
光刻系统
EVG620
光刻系统 EVG620
技术参数:
功能特色:
样品要求:
应用领域:
半导体微纳加工
收费标准:
价格 面议
为您推荐
JHQ系列激光划片机
反应离子束刻蚀(RIE)
NRE-4000
傅里叶变换红外光谱仪
VERTEX 70v
立体显微镜
HAWK4
免费咨询
我要使用