未收藏
光刻系统
EVG620
光刻系统 EVG620
技术参数:
功能特色:
样品要求:
应用领域:
半导体微纳加工
收费标准:
价格 面议
为您推荐
立体显微镜
HAWK4
XPS分析:常规分析(全扫描、高分辨率扫描)(米格)
x 射线光电子能谱仪
3D立体显微镜
OLS40-SU
透射电镜制样:FIB制样(米格)
Helios 600i
免费咨询
我要使用