未收藏
光刻系统
EVG620
光刻系统 EVG620
技术参数:
功能特色:
样品要求:
应用领域:
半导体微纳加工
收费标准:
价格 面议
为您推荐
双晶DXRD:高温,mapping(米格)
高分辨双晶X射线衍射仪(DXRD)
室温、低温冲击
JBN-300
室温、高温扭转
QBN500-L
光致发光PL:光致发光激发谱PLE(米格)
时间分辨光致发光发射谱TRPL
免费咨询
我要使用