磁控溅射镀膜仪 DISCOVERY-635 美国丹顿仪器公司
- 技术参数：
- 四个直径4英寸溅射靶枪（含一个磁性增强靶枪），靶枪角度可调节； 溅镀距离+/-100mm可调；独立式气动遮板四个；具备共溅镀和多层膜薄膜沉积功能；样品可加热至800摄氏度；极限真空: 优于1.5E-7Torr；真空抽速：30分钟从大气压抽到5E-6Torr；真空室漏率：优于5E-5Torr.L/s；在8英寸衬底范围内薄膜沉积厚度均匀性为±5、重复性为±3。
- 功能特色：
- 制备各种单层或多层金属膜、介质膜、半导体膜。该设备为在材料（金属、非金属）表面制备具有多种特殊性能的膜层的专用设备，是物理气象沉积（PVD）这一先进材料技术的必需硬件。可用于进行材料表面改性、表面金属-无机复合、表面镀膜等类型的研究。
- 样品要求：
- 应用领域：
- 收费标准：
- 价格 面议
