电子束蒸发镀膜机 HVC-800DA 韩国Hanil 真空
- 技术参数：
- （1）可沉积各种金属材料包括难熔金属、 绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品. （2）具有高真空(< 2×10-7 Torr ), 低腔温 （<90oC），适合Lift-Off 制程要求. （3）可装载标准的2’’和4’’的晶片和不规 则大小的样品，样品的均匀性 <3%. （4）设置6 个坩锅，可以完成不同金属薄 膜的多层沉积. （5）配有膜厚仪实时对膜厚进行检测，实现对薄膜的厚度的精确控制。 （6）配备软件操作系统，可编制沉积程序，并可选择进行手动和自动制程。
- 功能特色：
- （1）可沉积各种金属材料包括难熔金属、 绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品. （2）具有高真空(< 2×10-7 Torr ), 低腔温 （<90oC），适合Lift-Off 制程要求.
- 样品要求：
- 应用领域：
- 主要用于光学膜、电学膜以及半导体领域的高质量薄膜的沉积。
- 收费标准：
- 价格 面议
