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光刻实验室

技术参数：
净化等级为1000级，1.1um-2.5um等间距线条加工，实验条件：曝光机：接触接近式曝光机光刻胶：正胶BP218-14胶厚：1um2.厚胶曝光实验条件：曝光机：接触式曝光机光刻胶：SU8-50
功能特色：
样品要求：
应用领域：
收费标准：
价格   面议

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