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光刻实验室
光刻实验室
技术参数:
净化等级为1000级,1.1um-2.5um等间距线条加工,实验条件:曝光机:接触接近式曝光机光刻胶:正胶BP218-14胶厚:1um2.厚胶曝光实验条件:曝光机:接触式曝光机光刻胶:SU8-50
功能特色:
样品要求:
应用领域:
收费标准:
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