JEOL JBX-9500FS 100kV圆形束电子束光刻系统简介

1.技术特点

由于采用的位置偏转DAC为20位，扫描DAC为14位，能获得0.25nm的扫描步距，分辨率更高，描画数据增长1nm，可以更忠实地再现描画数据。最快达到100ＭＨｚ的高速化扫描速度，保证了大电流描画时的扫描步距很短，因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的最小定位单位及高分辨率，达到了世界最高水准的位置精度。本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。该系统最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的光掩模版，适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统（选配），最多可装载10个卡匣。利用微间距控制程序（场尺寸微调程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。

2.设备参数

3.服务内容及报价：

（1）服务内容：

JEOL JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统。最大能容纳Φ300mm的晶圆片和6英寸的掩模版。具有100MHz的扫描速度。1000μm×1000μm写场的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置精度达±9nm。采用20位的光束定位DAC以及14位的扫描DAC，可以得到0.25nm的扫描步距。该系统适合光子器件、通信设备、纳米压印等多个领域的研发及生产

（2）报价：

按照曝光版图面积给出评估报价。

4.案例展示：