半导体：光刻胶、SiO2/SiNx/SOI

LCD：PI、ITO

MEMS：光刻胶、多晶膜

光学膜：硬质涂层、减反膜

KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术，利用380~1050nm光谱垂直入射至样品表面，光线在薄膜薄界面处反射后干涉，记录干涉强度随着波长的变化，通过傅里叶变化可以计算得到膜层厚度。另外一种模式可以通过拟合对反射光谱进行计算，可以得到膜厚、折射率n、k数值

技术参数

膜厚范围：20nm~70um

光斑尺寸：1.5mm-150um

波长范围：380~1050nm

测试精度：<0.2% or 2 nm

重复精度：0.05nm

样品尺寸：直径<200mm

测试速度：5point/5~10sec
   

测试原理图

客户提供

（1）衬底+膜层结构

（2）测试点数量和位置

（3）数据报告中包含信息；样品信息、2D 色坐标及excel三维膜厚与坐标对应关系数据

测试大纲

（1）检测仪器状态，利用Si/SiO2标准片进行校准，确保设备正常工作状态

（2）放置样品：选择合适尺寸的载台，将参考边对准载台定位边

（3）设置参数：基底、膜层及模型的选择，测试点位mapping，可选线扫、面扫49点、56点；注意，一般膜厚拟合率GOF>0.9；

（4）报告整理：按照以上报告列表，给出mapping图、原始数据

案例一：2D mapping

案例二：3D mapping