服务详情
电子束曝光 EBL
￥面议
周期：7-14个工作日
设备：Raith voyager
电子束曝光技术在MEMS、光电、光通讯、微波/功率器件、微纳加工、新材料研究等领域具有广泛应用
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样品要求
2寸以内
服务描述
曝光面积：可协商
最小线宽：15-20nm
光刻胶种类：PMMA&HSQ
刻蚀工艺：可协商
样品尺寸：2寸之内
案列展示
