SEM/电子束刻蚀系统
Zeiss Supra55+Raith
SEM/电子束刻蚀系统 Zeiss Supra55+Raith 德国Zeiss 和 Raith 公司
- 技术参数：
- 1.扫描速度有：2.5MHz,4MHz，6MHz和10MHz多种选择
2.工件台移动：45mmX45mm，150mmX150mm，200mmX200mm
3.激光工件台的激光定位精度为2nm
主要特点1.可与多种SEM，FIB相结合形成电子束光刻系统
2.可提供三种型号的完整的电子束光刻系统 (Raith50, Raith150, e_LiNE)
3.价格合理，特别适用于学校和科研单位
4.可根据用户不同需求订制配置
- 功能特色：
- 1） 电子束直写应用。例如用于Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米光刻（例如
单电子器件、量子器件制作等）。
2） 高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match）。
3） 图形线宽和图形位移测量等
2．可根据用戶的应用情况和设备情况为用戶的微细结构研究和开发提供经济实用、方便
快捷的电子束光刻技术方案。可根据用户的要求将用户已经购买的各种不同型号的扫描
电子显微镜（JEOL，PHILIPS，AMRAY，HITACHI，CAMBRIDGE，ZEISS，等等），扫描
透射电子显微镜和聚焦离子束显微镜配备上图形制作的功能，可以用它来制作微细图形，
同时又不失去显微镜的功能。
3．电子束曝光中使用的邻近效应校正软件和层级结构的GDSⅡ编辑和浏览软件。
4．大行程、高精度、激光干涉定位的超高真空工件台。
5．半导体工业中造成失效的缺陷检查和缺陷的CAD定位、集成电路解剖和图象采集软件
及工件台。
6．各种特殊电子显微镜的配件的制作。如大行程、360度旋转、大倾斜角度(倾斜时可
保持所选样品点在中心位置不变)、高精度定位、拉伸、扭曲、加热及冷却或根据用
户提出的特殊要求的样品台。
- 样品要求：
- 应用领域：
- 1） 电子束直写应用。例如用于Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米光刻（例如
单电子器件、量子器件制作等）。
2） 高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match）。
3） 图形线宽和图形位移测量等
- 收费标准：
- 价格 面议
