纳米压印系统 MicroTec 德国Karl Suss
- 技术参数：
- 压印精度：30nm 重复性：±10nm（pitch） ±15nm（depth） 晶圆尺寸：2”, 4’’ 最大模具尺寸：6’’ 脱模方式：真空顺序脱模
- 功能特色：
- 采用气体软压技术，压印均一性与一致性良 好。典型使用领域：光子晶体、亚波长光学器件、 OLED、生物微沟道、有机薄膜晶体管、渐变折射率层等
- 样品要求：
- 应用领域：
- 采用气体软压技术，压印均一性与一致性良 好。典型使用领域：光子晶体、亚波长光学器件、 OLED、生物微沟道、有机薄膜晶体管、渐变折射率层等。
- 收费标准：
- 价格 面议
