反应离子束刻蚀（RIE) NRE-4000 美国Nanomaster 公司
- 技术参数：
- 反应气体：O2, Ar, CF4，CHF3，SF6 RF 最大功率：600W 电极尺寸：240mm 刻蚀材料：氧化物、半导体、金属等 最大晶片尺寸：6 英寸
- 功能特色：
- 用于各种材料的离子束反应刻蚀，辅 助形成微/纳结构。可用于各种微纳器件 与结构的制作，如：微纳电子器件，光 电子器件，生物传感器，微纳机电系统， 超导电子学器件，磁电子学器件等，也 是研究材料在低维度、小尺寸下量子行 为的重要辅助工具
- 样品要求：
- 应用领域：
- 用于各种材料的离子束反应刻蚀，辅 助形成微/纳结构。可用于各种微纳器件 与结构的制作，如：微纳电子器件，光 电子器件，生物传感器，微纳机电系统， 超导电子学器件，磁电子学器件等，也 是研究材料在低维度、小尺寸下量子行 为的重要辅助工具
- 收费标准：
- 价格 面议
