强磁场低温近场扫描显微系统
attoSNOM‐Ⅲ
强磁场低温近场扫描显微系统 attoSNOM‐Ⅲ 德国Attocube Systems AG 公司
- 技术参数：
- 1． 配有两个高精度定位的探针台：
分别用于SNOM探针和额外光纤
定位与移动；
2． 工作温度：1.8K-300K；
3． 磁场强度：7Tesla；
4． 液氦消耗速率：0.25 l/hr；
5． 温度稳定性：<0.05 K；
6． 成像模式：形貌成像、反射光信号
成像、投射光信号成像；
7． 反馈调制方式：振幅调制、相位调
制、频率调制等；
8． 样品粗选区范围：5×5×5mm3；
9． 粗位移步长：300K时为0.05-3μm；
4K时为10-500nm
10． 扫描范围：300K时为40×40μm2；4K时为30×30μm2
11． 典型分辨率：<200nm（取决于aperture的配置）
12． Z方向噪音：<50 pm/√Hz；Z方向分辨率：0.12 pm（扫描模式）
13． 将来可进行功能拓展，选件包括：共聚焦显微镜、原子力显微镜
14． 将来可进行工作温度的拓展：300mK或更低
- 功能特色：
- AttoSNOM‐Ⅲ系统是国际上唯一一台能在低温与强磁场环境中，进行近场
光学研究的设备，该系统适用于对各种材料的近场光学性质测量，
- 样品要求：
- 应用领域：
- 其研究范围
包括了物理、材料、化学、生物等科学。所能测量的材料有金属、半导体、磁
性材料、有机材料等等，材料的形式可以是薄膜、块材、单晶和纳米材料等等。
- 收费标准：
- 价格 面议
