电子束蒸发镀膜系统 Ohmiker-50B 崇文科技股份有限公司

技术参数:
真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统;真空腔室尺寸:Φ600*H700mm;极限真空:优于8.0×10-5Pa;抽速:从大气抽至9.0×10-4Pa≤40min;基片烘烤温度:室温~350℃ ,可调可控(PID控温)
功能特色:
设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便、成膜均匀等优点,其次烘烤加热温度均匀;全包围机架外观整洁,安全保护齐备。
样品要求:
应用领域:
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