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光刻系统 MA6/BA6 SUSS

技术参数：
功能特色：
双面曝光；线宽1μm；对准精度1μm；可以刻蚀各种规则和不规则的基片，最大基片尺寸6”
样品要求：
应用领域：
半导体微纳加工
收费标准：
价格   面议

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