电子束曝光机（EBL)
Vistec EBPG5000 plus ES
电子束曝光机（EBL) Vistec EBPG5000 plus ES 美国Vistec
- 技术参数：
- 图形发生器频率：25 MHz；束斑位置稳定性：< 50 nm/h；束流稳定性：<±0.5%/h；主场稳定性：< 40 nm (for 400 μm main field within 0.5 h)；场畸变：<±15 nm(for 400 μm main field)；分辨率：< 8 nm line width (@100kV)；场拼接精度：套刻精度与直写精度：±15nm (for 100 μm main field@100kV)；±20nm (for 250 μm main field@100kV)；±25nm (for 400 μm main field@100kV)；±15nm (for 100 μm main field@100kV)；±20nm (for 250 μm main field@100kV)；±25nm (for 400 μm main field@100kV)；±15nm (for 100 μm main field@100kV)；±20nm (for 250 μm main field@100kV)；±25nm (for 400 μm main field@100kV)。
- 功能特色：
- 各种光学光刻模板的制备；各种碎片、50 mm及100 mm基片微纳米图案的直写，最小线宽<10 nm。
- 样品要求：
- 样品背面无残胶、碎片尺寸5mm-20mm。
- 应用领域：
- 收费标准：
- 价格 面议
