氩离子抛光仪 Gatan 697 IlionⅡ 美国Gatan
- 技术参数：
- 1. 离子枪：潘宁式离子枪，装载微小磁铁 2. 聚焦离子束设计：采用环形永磁体聚焦方 式，聚焦均匀，不需要更换 3. 减薄角度：+10°到 -10°，每支枪可独立调节 4. 离子枪束能量：0.1KeV-8KeV 5. 抛光速率：硅，每小时300μm 6. 样品更换：更换时间＜30s，无需破样品室真空 7. 冷台部分：带有液氮冷台，以及控温系统，一次加注液氮续航能力6-8小时，冷却温度最低 -120℃左右
- 功能特色：
- 氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。
- 样品要求：
- 应用领域：
- 收费标准：
- 价格 面议
