未收藏
真空磁控溅射薄膜沉积仪
PVD400
真空磁控溅射薄膜沉积仪 PVD400 中科院沈阳科学仪器股份有限公司
技术参数:
射频溅射和直流溅射
功能特色:
样品要求:
应用领域:
收费标准:
价格 面议
为您推荐
透射电镜耗材:超薄碳膜(米格)
有机碳分析:TOC总有机碳
TOC总有机碳与总氮分析仪
MOCVD系统(自行研制)
湿法工作台
免费咨询
我要使用