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真空磁控溅射薄膜沉积仪
PVD400
真空磁控溅射薄膜沉积仪 PVD400 中科院沈阳科学仪器股份有限公司
技术参数:
射频溅射和直流溅射
功能特色:
样品要求:
应用领域:
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