未收藏
双面曝光机
双面曝光机
技术参数:
能够兼容6英寸以及4英寸以下基片的曝光。光源功率从250W到1000W不等。曝光光强:≤50mW/cm²。曝光时间设置范围:0S~999.9S
功能特色:
样品要求:
应用领域:
收费标准:
价格 面议
为您推荐
粉末XRD分析:粉末样品(米格)
X射线衍射仪
超声波扫描显微镜
Sonoscan Gen6
XPS/REELS分析:解决方案
X射线光电子能谱仪
强磁场低温近场扫描显微系统
attoSNOM‐Ⅲ
免费咨询
我要使用