未收藏
双面曝光机
双面曝光机
技术参数:
能够兼容6英寸以及4英寸以下基片的曝光。光源功率从250W到1000W不等。曝光光强:≤50mW/cm²。曝光时间设置范围:0S~999.9S
功能特色:
样品要求:
应用领域:
收费标准:
价格 面议
为您推荐
环境扫描电镜MLA:形貌分析+能谱(米格)
MLA 250,Quanta 250
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱
MALDI-7090 MS
扫频震动台
DS1410
扫描电镜:形貌分析+能谱(米格)
NanoSEM 430
免费咨询
我要使用