未收藏
双面曝光机
双面曝光机
技术参数:
能够兼容6英寸以及4英寸以下基片的曝光。光源功率从250W到1000W不等。曝光光强:≤50mW/cm²。曝光时间设置范围:0S~999.9S
功能特色:
样品要求:
应用领域:
收费标准:
价格 面议
为您推荐
AES分析:常规分析,包含分析
X射线光电子能谱仪
CHNSO元素分析仪
vairo EL CUBE
XPS分析:深度剖析
X射线光电子能谱仪
环境扫描电镜MLA制样:形貌分析+能谱(米格)
MLA 250,Quanta 250
免费咨询
我要使用