未收藏
离子刻蚀机RIE
RIE
离子刻蚀机RIE RIE 北软检测芯片实验室
技术参数:
离子刻蚀机RIE
功能特色:
1.用于对使用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻, 其中包括碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、 石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨 2.器件表面图形的刻蚀
样品要求:
样品情况,分析要求
应用领域:
收费标准:
价格 面议
为您推荐
高分辨透射电镜:形貌分析、能谱(米格)
JEOL 2010
Bruker 400M核磁共振仪
Bruker 400
非接触式三维光学轮廓仪(3D Optical Profilometer)
Talysurf CCI Lite
可编程电源
E3631A
免费咨询
我要使用