晶圆电镀金公司 XX 日本进口设备 已认证

功能特色：...

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离子体增强化学气相沉积(PECVD) NRE-4000 美国Nanomaster 公司 已认证

功能特色：ECVD 系统可以借助微波或射频源 使含有薄膜组成原子的气体在局部 形成等离子体...

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反应离子束刻蚀（RIE) NRE-4000 美国Nanomaster 公司 已认证

功能特色：用于各种材料的离子束反应刻蚀，辅 助形成微/纳结构。可用于各种微纳器件 与结构的...

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电子束蒸发镀膜机 HVC-800DA 韩国Hanil 真空 已认证

功能特色：（1）可沉积各种金属材料包括难熔金属、 绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品. （2...

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磁控溅射镀膜系统（Lab 18） LAB18 美国Lesker 已认证

功能特色：各种金属薄膜的溅射沉积；各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积；可共溅射沉积薄膜；...

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磁控溅射镀膜系统（ACS-4000-C4) ACS-4000-C4 日本ULVAC 已认证

功能特色：各种金属薄膜的溅射蒸镀；各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积...

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电子束蒸发镀膜系统（BOC 500） AUTO BOC-500 英国 爱德华 已认证

功能特色：电子束蒸发仪可蒸发高纯与难熔材料，包括高熔点金属与非金属材料；四个可旋转坩埚，可...

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电子束蒸发镀膜系统 Ohmiker-50B 崇文科技股份有限公司 已认证

功能特色：设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便、成膜均匀等优点，其次烘烤加热温度均匀；全...

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高密度等离子体增强化学气相沉积设备（ICP-CVD） KJLC LAB18 德国sentech 已认证

功能特色：可制备高质量、低应力的氧化硅、氮化硅及非晶硅薄膜。 适用基片尺寸4英寸整片...

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等离子介质膜沉积 System100 Oxford 已认证

功能特色：...

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