晶圆电镀金公司 XX 日本进口设备 已认证

功能特色：...

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等离子介质膜沉积 System100 Oxford 已认证

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离子束溅射台 Optofab3000 Oxford 已认证

功能特色：膜厚精确度：±1.5%；中心波长膜厚度均匀性：3英寸范围内±0.5%；增透膜：对...

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LPCVD设备 LP4612-2F 青岛精诚华旗 已认证

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电子束蒸发台 C26VE25A Innotec 已认证

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电子束蒸发台 EB700-I 沈阳科仪 已认证

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电子束蒸发 EB500 沈阳科仪 已认证

功能特色：光纤参数：SM-9/125紧套光纤、光纤前端为磨锥透镜光纤，夹角=35o r=7...

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磁控溅射系统 DISCOVERY635 DENTON 已认证

功能特色：主要用于常规金属的溅射沉积。目前配有Ti、Al、Co、Ni、Fe、Ni80Fe2...

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电子束蒸发台 Explorer 14 Denton 已认证

功能特色：每一次工艺可以蒸发四种不同金属材料；Lift-off工艺一次可以蒸镀18片2"圆...

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磁控溅射镀膜仪 DISCOVERY-635 美国丹顿仪器公司 已认证

功能特色：制备各种单层或多层金属膜、介质膜、半导体膜。该设备为在材料（金属、非金属）表面制...

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