光刻机 SUSS MA6 进口设备 SUSS 已认证

功能特色：...

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紫外曝光机 MA6 德国Karl Süss 公司 已认证

功能特色：采用紫外光源，制作亚微米(最小线宽0.5 μm)的图形。可用于各种微器件的制 作...

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SEM/电子束刻蚀系统 Zeiss Supra55+Raith 德国Zeiss 和 Raith 公司 已认证

功能特色：1） 电子束直写应用。例如用于Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米光刻...

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纳米压印系统 MicroTec 德国Karl Suss 已认证

功能特色：采用气体软压技术，压印均一性与一致性良 好。典型使用领域：光子晶体、亚波长光学器...

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电子束曝光机（EBL) Vistec EBPG5000 plus ES 美国Vistec 已认证

功能特色：各种光学光刻模板的制备；各种碎片、50 mm及100 mm基片微纳米图案的直写，...

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纳米压印机 HEX-01 德国Zwick/Roell 已认证

功能特色：纳米压印系统采用热压和紫外光固化的图形成型方法，可进行微米级至纳米级的图形复制，...

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双面对准接触式紫外光刻机(MA6) MA6 德国SUSS公司 已认证

功能特色：适用于所有标准化的光刻应用。具备顶部和底部对准系统。...

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单面对准紫外光刻机 MJB4 韩国MIDAS公司 已认证

功能特色：适用于所有标准化的光刻应用。该设备稳定性、重复性高，可加工微细尺寸图形；采用分离...

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CEE匀胶机（6寸、4寸、其他） cee 200x  Brewer Science 已认证

功能特色：旋转涂布机配备了间接驱动系统，该系统可以防止与处理化学品和溶剂接触的旋转电机。分...

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等离子去胶机 DQ-500C 已认证

功能特色：工艺简单、可靠、效率高;处理后无酸气废水等残留...

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